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首頁-企業新聞-PECVD管式爐的爐體結構特點和用途介紹

PECVD管式爐的爐體結構特點和用途介紹

更新時間:2021-04-23      點擊次數:1686
   PECVD管式爐配有等離子射頻電源,開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)及一個直聯式雙旋機械泵。此套設備模型可組合為不同類型的PECVD系統,且設備性價較為理想。
 
  PECVD管式爐的爐體結構:
  采用雙層殼體結構,并帶有風冷系統。
 
  ·爐膛采用高純多晶氧化鋁纖維,更大程度的減少能量損失。
 
  ·內爐膛表面涂有美國進口1750度高溫氧化鋁涂層可以提高反射率及設備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命。
 
  ·可選購移動爐架,方便爐體的移動。
 
  ·產品特點:
  ?射頻電源可實現等離子增強從而顯著降低實驗溫度;
 
  ?整套設備尺寸小巧;
 
  ?可通過工藝調節來控制化學計量;
 
  ?可通過射頻電源的頻率來進行控制薄膜的應力。
 
  PECVD管式爐的主要用途:
  1、利用等離子體聚合法可以容易地形成與光的波長同等程度的膜厚。這樣厚度的膜與光發生各種作用,具有光學功能性。即:具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用。由于這種性質的存在,低溫沉積Si3N4減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。
 
  2、用于集成光電子器件介質SiYNX膜的制備,如半導體集成電路的襯底絕緣膜、多層布線間絕緣膜以及表面純化膜的生長。
 
  3、在電子材料當中可制成無針孔的均一膜、網狀膜、硬化膜、耐磨膜等。
 
  4、在半導體工藝中不僅用于成膜,而且用于刻蝕,也是一個較為理想的設備,它可刻0.3μm以下的線條。

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